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Präzisionsschliffhalter für Parallelschliffe in der Halbleitertechnologie

IP.com Disclosure Number: IPCOM000017234D
Original Publication Date: 2000-Apr-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-22
Document File: 2 page(s) / 205K

Publishing Venue

Siemens

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Anton Bogenrieder: AUTHOR

Abstract

Zur technologischen Untersuchung und Qualitätsbewertung von Halbleiterbauelementen ist es erforderlich, Schliffe des Halbleiterkristalls anzufertigen. Die Schliffe müssen mit einer Zielgenauigkeit von 2 m m Zielbereiche mit einer Längsausdehnung von mindestens 10mm treffen. Um die Schliffebene zu den Strukturen des Halbleiterkristalls parallel zu stellen, wird der Halbleiterkristall auf einen Träger geklebt, der in einem Halter justiert wird. Die Optimierung der Prüfungsausrichtung wird während der Annäherung an das Zielgebiet durch mehrere iterative Schritte erreicht.

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Bauelemente

Präzisionsschliffhalter für Parallelschliffe in der Halbleitertechnologie

Idee: Anton Bogenrieder, München

Zur technologischen Untersuchung und Qualitätsbewertung von Halbleiterbauelementen istes erforderlich, Schliffe des Halbleiterkristalls anzufertigen. Die Schliffe müssen mit einerZielgenauigkeit von 2  m  m Zielbereiche mit einer Längsausdehnung von mindestens 10mmtreffen. Um die Schliffebene zu den Strukturen des Halbleiterkristalls parallel zu stellen,wird der Halbleiterkristall auf einen Träger geklebt, der in einem Halter justiert wird. DieOptimierung der Prüfungsausrichtung wird während der Annäherung an das Zielgebietdurch mehrere iterative Schritte erreicht.

Um das herkömmliche Verfahren, bei dem der Träger auf einem Halter fixiert wurde, zuverbessern, soll nun ein modifizierter Halter zum Einsatz kommen, der im Gegensatz zudem in der Figur dargestellten, bekannten Halter eine Änderung der Schliffebene zuläßt.Hierfür läßt sich der modifizierte Halter durch zwei Rändelschrauben mit Feingewinde umeinen Drehpunkt kippen. Die Justierung der gewünschten Schliffebene  wird auf diese Weisewesentlich vereinfacht.

Die Modifikation des Halters ermöglicht eine deutlich schnellere Präparation desHalbleiterkristalls. Zudem entstehen weniger Fehlschliffe, was eine weitere Zeitersparnisbedeutet.

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