Browse Prior Art Database

Universal-Einrichtscheibe für SVG

IP.com Disclosure Number: IPCOM000017575D
Original Publication Date: 2001-Apr-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-23
Document File: 1 page(s) / 22K

Publishing Venue

Siemens

Related People

Roland Pacher: AUTHOR [+3]

Abstract

Bei älteren Belichtungseinrichtungen für die Chip-Produktion (hier SVG) kann die Platzierung der Erstebenen zur Belichtung den steigenden Anforderungen an den Rand-ausschluss nicht mehr genügen. Chip-Ausfälle entstehen durch Rotation und Versatz, ausgelöst durch die Bewegung des Kreiselarms, der die Waferscheiben von der Ladestation in die Belichtungsposition bringt. Zum Fehlerausgleich werden auf Rotation und Versatz geprüfte, typabhängige Dummies mit Belichtung der Produktionsmaske in Lack als Einrichtscheiben verwendet.

This text was extracted from an ASCII text file.
This is the abbreviated version, containing approximately 80% of the total text.

-   129   -

Industrie

Universal-Einrichtscheibe für SVG

Idee: Roland Pacher, A-Villach; Jens Stäcker, A-Villach;

Egon Tomaschkowatsch, A-Villach

Bei älteren Belichtungseinrichtungen für die Chip-Produktion (hier SVG) kann die Platzierung derErstebenen zur Belichtung den steigenden Anforderungen an den Rand-ausschluss nicht mehrgenügen. Chip-Ausfälle entstehen durch Rotation und Versatz, ausgelöst durch die Bewegung desKreiselarms, der die Waferscheiben von der Ladestation in die Belichtungsposition bringt. ZumFehlerausgleich werden auf Rotation und Versatz geprüfte, typabhängige Dummies mit Belichtungder Produktionsmaske in Lack als Einrichtscheiben verwendet.

Zur Reduzierung der Vielfalt der Einrichtscheiben soll erfindungsgemäß von einem typabhängigenzu einem universellen Design übergegangen werden. Dieses muss alle typabhängigenAusrichtungs- und Zentrierformen, z.B. Testchip, Randchip oder Sägerahmen, für 5“- und 6“-Scheiben und sowohl bei Hellfeld- als auch bei Dunkel-feldmasken zuverlässig ermöglichen.

Hierzu wird ein Rasterdesign erzeugt, das auf den kleinsten produzierten Chip und den kleinstenverwendeten Sägerahmen optimiert wird. Die Justierinformationen in Form der Bezeichnungender vertikalen und horizontalen Gitter werden jeweils im positiven und negativen Kontrast in dasPattern eingebracht. Zur Belichtung des erfindungsgemäßen Patterns muss natürlich eine bessereBelichtungseinrichtung verwendet werden als diejenige, für die die neue u...