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Optimierte Verfahrensweise zur Reinigung von CVD-Kammern

IP.com Disclosure Number: IPCOM000017723D
Original Publication Date: 2001-Jul-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-23
Document File: 2 page(s) / 58K

Publishing Venue

Siemens

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Dr. Markus Kirchhoff: AUTHOR

Abstract

Das Beschichten von Silizium Wafern erfolgt in Plasma-Kammern durch die sog. Chemical Vapor Deposition (CVD). Die so entstehenden Schichten werden jedoch nicht nur auf dem Wafer aufgetragen, sondern lagern sich auch auf den Oberflächen der Kammer, innerhalb der Pumpleitung (4) und am Throttle Ventil ab. Die betreffenden Elemente der Kammer müssen daher einem regelmäßigen Reinigungsprozess unterzogen werden.

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Industrie

Optimierte Verfahrensweise zur Reinigung von CVD-Kammern

Idee: Dr. Markus Kirchhoff, Dresden

Das Beschichten von Silizium Wafern erfolgt in Plasma-Kammern durch die sog. Chemical VaporDeposition (CVD). Die so entstehenden Schichten werden jedoch nicht nur auf dem Waferaufgetragen, sondern lagern sich auch auf den Oberflächen der Kammer, innerhalb derPumpleitung (4) und am Throttle Ventil ab. Die betreffenden Elemente der Kammer müssen dahereinem regelmäßigen Reinigungsprozess unterzogen werden.

Für D-CVD Anlagen existiert ein Reinigungsverfahren, welches das Reinigungsgas vor demEintritt in die Kammer durch ein Plasma in seine atomaren Bestandteile zerlegt. Die auf dieseWeise entstandenen Fluoratome (Radikale) reagieren dann mit den auf dem Showerhead (6),dem Susceptor und an den Kammerwänden abgeschiedenen Schichten zu einem gasförmigenProdukt. Diese Form der Reinigung nimmt einen relativ großen Zeitraum in Anspruch, so dasssich die CVD-Kammer ca. 20 – 50% der Betriebszeit im Reinigungszyklus befindet.

Entgegen der bisher sequentiell ablaufenden Reinigung, bei der bedingt durch die Zuführung desReinigungsgases durch den Showerhead dieser zuerst gereinigt wird und erst nachfolgend dieweiteren Elemente, lässt sich die Effektivität dieses Verfahrens durch eine zusätzliche Gasleitung(1) wesentlich steigern (Bild 1).

Durch die gleichzeitige Zuführung des Reinigungsgases direkt zum Pumprohr, dem Throttle Ventilund zum Showerhead gelangen die Fluor...