Browse Prior Art Database

Dynamische Variation der Sputtergeometrie zur Verbesserung der Seitenwand-und Kantenbedeckung gesputterter Schichten

IP.com Disclosure Number: IPCOM000017814D
Original Publication Date: 2001-Oct-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-23
Document File: 1 page(s) / 156K

Publishing Venue

Siemens

Related People

Dr. Stefan Wurm: AUTHOR [+2]

Abstract

Beim Sputtern von Probenoberflächen mit Vertiefun- gen beliebiger Art kommt es zu mangelhaften Kan- ten- und Seitenwandabdeckungen (3,4).

This text was extracted from an ASCII text file.
This is the abbreviated version, containing approximately 100% of the total text.

Dynamische Variation der Sputter-geometrie zur Verbesserung derSeitenwand- und Kantenbedeckunggesputterter Schichten

Bauelemente

Idee: Dr. Stefan Wurm, München;

Dr. Siegfried Schwarzl, München

Beim Sputtern von Probenoberflächen mit Vertiefun-gen beliebiger Art kommt es zu mangelhaften Kan-ten- und Seitenwandabdeckungen (3,4).

In den  bisherigen  Ausführungen  kann  nur  der  Ab-stand der Sputterkeule (1) von der Oberfläche der zubehandelnden Probe oder die Winkelverhältnisse (2)zwischen beiden statisch verändert werden. (Fig.1)

Bei dem vorliegenden Vorschlag können der Ort derSputterkeule (1) und ihr Winkel-verhältnis zur Pro-benoberfläche (2) während des Sputterprozessesdynamisch  derart  variiert  werden,  dass  durch  denentstehenden  Streukegel  (5)  befriedigende  Kanten-und Seitenwandbedeckungen  (3,4)  durch  das  Sput-termaterial an  allen  Oberflächenkonturen  erreichtwerden. (Fig.2)

Rotationsgeschwindigkeit  der  Sputterkeule  (1) undder beschreibende Kegelwinkel können dabei unab-hängig voneinander zur  Optimierung  des  Prozessesverändert  werden.  Darüber  hinaus  ist  bei  entspre-chenden Anforderungen eine Abänderung der Bewe-gungsrichtung und –form möglich.

Fig.1

Fig.2

1

5 1

2

2

3

3

4

4

Siemens  Technik Report      Jahrgang 4  Nr.13      Oktober 2001

17