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Transistor als Identifizierungsmerkmal für eine Chipkarte

IP.com Disclosure Number: IPCOM000017857D
Original Publication Date: 2001-Oct-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-23
Document File: 1 page(s) / 123K

Publishing Venue

Siemens

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Dr. Franz Hofmann: AUTHOR [+3]

Abstract

Transistoren sollen als Identifizierungsmerkmal für Chipkarten verwendet werden. Jeder einzelne Chip erhält bei der Herstellung ein Merkmal, welches von außen nicht verändert werden kann.

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Industrie

Transistor als Identifizierungs-merkmal für eine Chipkarte

Idee: Dr. Franz Hofmann, München;

Dr. Josef Willer, Riemerling;Dr. Hannes Luyken, München

Transistoren  sollen  als  Identifizierungsmerkmal fürChipkarten  verwendet  werden.  Jeder  einzelne  Chiperhält bei der Herstellung ein Merkmal, welches vonaußen nicht verändert werden kann.

Dafür wird in einem speziellen Herstellungsverfahrenein  Transistor  mit  individuellen  Eigenschaften  er-stellt, die von Chip zu Chip verschieden sind. DieseEigenschaften  können  deshalb  nicht  durch  spätereEingriffe in den Chip manipuliert werden.

Durch die Verwendung mehrerer dieser Transistorenauf einem Chip kann ein eindeutiger und individuel-ler Schlüssel auf dem Chip erstellt werden.

Das Herstellungsverfahren gestaltet sich wie folgt:

Bei der Flash Herstellung ist zu einem bestimmtenZeitpunkt das aktive Gebiet mit Tunneloxid bedeckt.Nun erfolgt hier mit  einer  Lackmaske  eine  RIE-Ätzung (Reaktiv-Ionenätzen). Statt dessen kann auchdas vorhandene Oxid naß-chemisch geätzt werden. Eserfolgt im wesentlichen ein Silizium-Ätzprozeß, beidem die Ätzdauer einer Ätzung von ca. 500 nm Sili-zium entspricht. Zu Beginn wird mit hoher Selektivi-tät zu Oxid geätzt. Während des Ätzvorgangs wirddie Selektivität zu Oxid verringert. Die Selektivität zuOxid wird so eingestellt, daß am Ende der Ätzung dasTunneloxid vollkommen entfernt ist. Das Oxid wirdan  undefinierten  Stellen  zuerst  entfernt.  An  diesenStel...