Browse Prior Art Database

Robuste Designformen gegenüber Epitxie-Überschichtung

IP.com Disclosure Number: IPCOM000018252D
Original Publication Date: 2002-Apr-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-23
Document File: 3 page(s) / 685K

Publishing Venue

Siemens

Related People

Dr. Hans Weber: AUTHOR [+9]

Abstract

Bei der Herstellung von Mikrobauelementen werden zur Strukturierung einzelner Schichten photolitho- graphische Verfahren verwendet. Dabei wird eine strahlungsempfindliche Lackschicht in den ge- wünschten Bereichen so bestrahlt, daß in einem ge- eigneten Entwickler nur die bestrahlten Bereiche (=Positivlack; unbestrahlten Bereiche =Negativlack) entfernt werden. Die so entstandene Lackstruktur wird dann z.B. über Ätzung oder Implantation auf den Wafer abgebildet. Diese Abbildung darf gegen- über einer im Herstellungsprozeß früher definierten Ebene (in der Folge mit Justageebene bezeichnet) einen Maximalversatz nicht überschreiten. Dieser wird durch technologische und anwendungsbezogene Anforderungen festgelegt.

This text was extracted from an ASCII text file.
This is the abbreviated version, containing approximately 33% of the total text.

Robuste Designformen gegenüberEpitxie-Überschichtung

Industrie

Idee: Dr. Hans Weber, A-Villach;

Dr. Johannes Baumgartl, A-Villach;Andreas Moser, A-Villach;Dieter Kreuzwieser, A-Villach;Dr. Jörg Ortner, A-Villach;Elisabeth Greil, A-Villach;Josef Campidell, A-Villach;Thomas Grille, A-Villach;Eduard Sturm, A-Villach

Bei der Herstellung von Mikrobauelementen werdenzur  Strukturierung  einzelner  Schichten photolitho-graphische  Verfahren verwendet.  Dabei  wird  einestrahlungsempfindliche Lackschicht in den ge-wünschten Bereichen so bestrahlt, daß in einem ge-eigneten Entwickler nur  die  bestrahlten  Bereiche(=Positivlack; unbestrahlten Bereiche =Negativlack)entfernt  werden.  Die  so entstandene  Lackstrukturwird dann z.B. über Ätzung oder Implantation aufden Wafer abgebildet. Diese Abbildung darf gegen-über einer im Herstellungsprozeß früher definiertenEbene  (in  der Folge mit Justageebene  bezeichnet)einen Maximalversatz  nicht  überschreiten.  Dieserwird durch technologische und anwendungsbezogeneAnforderungen festgelegt.

Zu diesem Zweck werden in der JustageebeneStrukturen  (=“Targets“)  definiert,  relativ zu denendann die lithographische Abbildung ausgerichtetwird. Voraussetzung für eine genaue Justage ist, daßdas Belichtungsequipment die definierten Targets alssolche erkennt.

Während bei älteren Generationen von Belichtungs-anlagen die Targetform oft genau vorgegeben war,lassen Neuentwicklungen beliebige Justagestrukturenzu.  Voraussetzung  für  eine einwandfreie Justierer-kennung (eine „Vorausrichtung bzw. Prealignment“oder  auch  Fahrwegkontrolle des Belichtungsequip-ments) und versatzgenaue Abbildung ist dann nur,daß die zu lesenden Targets einer Referenz entspre-chen, deren Bild in der Software des Belichtungse-quipments hinterlegt ist. Die Referenztargets ergebensich  aus  einem  Testlauf  des  Fertigungsprozeßes.Somit ist die Justierbarkeit direkt gekoppelt mit derReproduzierbarkeit der Targetform.

Mit neueren  Technologiegenerationen  steigen  dies-bezügliche  Anforderungen.  So  gibt es vermehrtTechnologien, bei denen eine oder mehrere Epitaxie-schichten über die Justageebene abgeschieden wer-den. Die Targets, auf die in einem der Epiabschei-dung folgenden Prozeßschritt  justiert  werden  muß,verändern dadurch ihr Aussehen (z.B. bezüglich derQuerschnittsform und den Lateraldimensionen).Diese Veränderung wird von einer Vielzahl von z.T.parasitären  Parametern  beeinflußt.  Bereits geringe

Prozessschwankungen können dabei zu nur schlechtreproduzierbaren oder untauglichen Targets führen.

Aufgabe einer stabilen Prozeßführung muß es sein,die entsprechenden Targets gegenüber dem verwen-deten Epi-Prozeß stabil und reproduzierbar auszule-gen. Eine möglichst hohe Epi-Abscheiderate ist dabeimeist als Randbedingung vorgegeben.

Bei bestehenden Prozessen werden zumeist konven-tionelle, vom Hersteller der Belichtungsanlagenvorgeschlagene  standardisierte  Designs verwendet.Um  mit  diesen  ein befrie...