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Präzisionsschliffhalter für Parallelschliffe in der Halbleitertechnologie

IP.com Disclosure Number: IPCOM000017234D
Original Publication Date: 2000-Apr-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-22

Publishing Venue

Siemens

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Authors:
Anton Bogenrieder [+details]

Abstract

Zur technologischen Untersuchung und Qualitätsbewertung von Halbleiterbauelementen ist es erforderlich, Schliffe des Halbleiterkristalls anzufertigen. Die Schliffe müssen mit einer Zielgenauigkeit von 2 m m Zielbereiche mit einer Längsausdehnung von mindestens 10mm treffen. Um die Schliffebene zu den Strukturen des Halbleiterkristalls parallel zu stellen, wird der Halbleiterkristall auf einen Träger geklebt, der in einem Halter justiert wird. Die Optimierung der Prüfungsausrichtung wird während der Annäherung an das Zielgebiet durch mehrere iterative Schritte erreicht. Um das herkömmliche Verfahren, bei dem der Träger auf einem Halter fixiert wurde, zu verbessern, soll nun ein modifizierter Halter zum Einsatz kommen, der im Gegensatz zu dem in der Figur dargestellten, bekannten Halter eine Änderung der Schliffebene zuläßt. Hierfür läßt sich der modifizierte Halter durch zwei Rändelschrauben mit Feingewinde um einen Drehpunkt kippen. Die Justierung der gewünschten Schliffebene wird auf diese Weise wesentlich vereinfacht.