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Dynamische Variation der Sputtergeometrie zur Verbesserung der Seitenwand-und Kantenbedeckung gesputterter Schichten

IP.com Disclosure Number: IPCOM000017814D
Original Publication Date: 2001-Oct-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-23

Publishing Venue

Siemens

Related People

Authors:
Dr. Stefan Wurm Dr. Siegfried Schwarzl [+details]

Abstract

Beim Sputtern von Probenoberflächen mit Vertiefun- gen beliebiger Art kommt es zu mangelhaften Kan- ten- und Seitenwandabdeckungen (3,4). In den bisherigen Ausführungen kann nur der Ab- stand der Sputterkeule (1) von der Oberfläche der zu behandelnden Probe oder die Winkelverhältnisse (2) zwischen beiden statisch verändert werden. (Fig.1)