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Kontinuierliche Druckmessung beim Prozess Umhüllen in der Halbleiterindustrie

IP.com Disclosure Number: IPCOM000018021D
Original Publication Date: 2001-Dec-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-23

Publishing Venue

Siemens

Related People

Authors:
Roman Peters Josef Dirnberger [+details]

Abstract

Für den Prozess Umhüllen von Halbleiterbauteilen ist der Druck in der Füllkammer (Kavität) des Spritzwerkzeuges eine wichtiger Kennwert. Da der Druck während des Arbeitsvorganges nicht konstant bleibt, ist man versucht, ein Messsystem zu entwi- ckeln, welches eine kontinuierliche Aussage über den Druck geben und das Ergebnis visualisieren kann. Durch die Entwicklung widerstandsfähiger Druck- messsensoren ist es nun möglich, ein solches rech- nergestütztes Messsystem zu realisieren.