Browse Prior Art Database

Computerprogramm zur Simulation der Ionenimplantation

IP.com Disclosure Number: IPCOM000018439D
Original Publication Date: 2002-Jun-01
Included in the Prior Art Database: 2003-Jul-23

Publishing Venue

Siemens

Related People

Authors:
Dr. Andreas Kyek [+details]

Abstract

Der Einsatz der Computer-Simulation für Ionen- Implantation ermöglicht eine schnellere Entwicklung von Halbleiterbauelementstrukturen, bezüglich deren tatsächlichen physikalischen/elektrischen Verhaltens bei der Herstellung (Grundmaterial, Oxidation, Mas- kierung, Ionen-Implantation, Ausheilung), bzw. eine zügigere Optimierung bei vorhandenen Design- schwächen. Die bisher eingesetzten Computer-Simulationen basieren meist auf semiempirischen Modellen und/oder sind für Ionen-Implantation in amorphe Materialien ausgelegt. Damit sind Darstellungen im dreidimensionalen Raum schwierig und/oder die Verhältnisse im kristallinen Material werden nur sehr grob wiedergegeben. Thermische Effekte werden oft nicht berücksichtigt.