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Month of October 2004 - Page Number 10

Showing 91 - 100 of 324 from October 2004
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  1. 91.
    CVD-Prozesskammern (CVD Chemical Vapour Deposition) koennen der Abscheidung von dotierten und undotierten Siliziumoxiden, -oxinitriden und –nitriden dienen. Zur Reinigung derartiger Kammern, die mit RPS-Einheiten zur Erzeugung des Reinigungsplasmas ausgeruestet sind, werden NF3-basierte Gasgemische wie z.B. NF3/Argon...
    IPCOM000030954D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  2. 92.
    Derzeit werden zumeist PNP (Positive Negative Positive Channel) (PMOS - Positive Channel Metal Oxide Semiconductor) Elemente dazu verwendet, einen gegebenen Strom derart auf einen anderen abzubilden, dass der Ausgangsstrom als Stromquelle wirkt (PNP-Stromspiegel). Dieser ist gegebenenfalls kaskadiert. Dadurch kann...
    IPCOM000031457D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  3. 93.
    Bislang werden in Hohlwellen die Gebersysteme mittels eines Zahnriemens oder mittels Uebertragungselementen sowie Zahnraedern am Torquemotor aussen angebaut. Durch die integrierbare Mitnehmerverbindung in einer Hohlwelle ist es moeglich, auch Standardgebersysteme einfach und kompakt zu integrieren. Die integrierte...
    IPCOM000031418D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  4. 94.
    Nach dem bislang ueblichen Oxidpolish von Wafern bleiben auf diesen Abrasivpartikel, Trocknungsflecken und Padrueckstaende zurueck. Diese lassen sich nicht durch einen zusaetzlichen Wasserpolish auf weichem Pad oder durch andere Reinigungsschritte wie Brush Clean oder nasschemische Reinigung entfernen. Diese Partikel...
    IPCOM000030953D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  5. 95.
    Advanced low-k technologies are rapidly approaching production maturity for logic and most recently DRAM products. In addition to a low dielectric constant, many low-k material processes exhibit excellent gapfill behavior because they are mostly deposited as liquids (e.g. spin-on, CVD condensation processes). Such a...
    IPCOM000031456D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  6. 96.
    In jedem Computertomographen (CT) muss eine elektronische Schutzeinrichtung zur Erkennung von Fehler- und Ableitstroemen vorhanden sein. In herkoemmlichen Anlagen wird die Ueberwachungsschaltung durch einen Leistungsschutzschalter in Kombination mit einem Differenzstromueberwachungsmodul und einer Messspule realisiert.
    IPCOM000030952D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  7. 97.
    When an electronic device is powered up, the internal circuitries can assume different initial states. Often parasitic elements determine the states after the power-on. For assuring that circuitries assume a defined initial state, generally a 'Power On Reset'-signal is required. Additionally, a reset signal typically...
    IPCOM000031455D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  8. 98.
    Bei vielen DSP (Digital Signal Processing)-Anwendungen, wie etwa der digitalen Spracherkennung oder der Simulation optischer Uebertragungssysteme wird intensiver Gebrauch von der FFT (Fast Fourier Transformation) gemacht. Bei einer FFT werden Vektor-Matrix-Multiplikationen ausgefuehrt. Herkoemmliche elektronische...
    IPCOM000030951D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  9. 99.
    Fuer viele Untersuchungen und Therapien ist es notwendig Venen mittels Injektionsbesteck sicher punktieren zu koennen. Venen sind optisch nicht immer optimal zu lokalisieren und muessen durch das Fachpersonal ertastet werden. In diversen Faellen (z.B. bei Kleinkindern, wenn die Haut und das Gewebe z.B. durch...
    IPCOM000031454D | Original Publication Date: 2004-Oct-25
  10. 100.
    La présente invention concerne une vis combinée (10) (voir la planche de dessins ci-annexée). Cette vis a été conçue pour répondre à deux objectifs précis, à savoir: -pouvoir être mise en place de manière automatique à l’aide d’un outil dont la dimension externe n’est pas supérieure au diamètre externe de la vis -...
    IPCOM000031453D | Original Publication Date: 2004-Oct-25